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年度 | 文章数/年 | 5年平均分 | 非自引分 | 自引率% | IFoid |
---|---|---|---|---|---|
2021 | 218 | 2.4961 | 2.5669 | 7.5 | 2.7753 |
2020 | 253 | 2.11 | 2.1278 | 8 | 2.312 |
2019 | 276 | 1.9029 | 1.8199 | 10.7 | 2.0368 |
2018 | 272 | 1.9639 | 1.754 | 9.9 | 1.9461 |
2017 | 328 | 1.841 | 1.526 | 12.5 | 1.744 |
2016 | 339 | 1.9002 | 1.4831 | 12.7 | 1.6979 |
2015 | 333 | 1.3869 | 1.0609 | 14.8 | 1.2451 |
2014 | 272 | 1.403 | 1.1629 | 14.2 | 1.3558 |
2013 | 238 | 1.3101 | 1.0519 | 7.9 | 1.1421 |
2012 | 242 | 1.252 | 1.1152 | 8.5 | 1.2178 |
2011 | 238 | 1.347 | 1.1139 | 8.6 | 1.2189 |
2010 | 188 | 1.3379 | 0.8579 | 5.4 | 0.907 |
期刊名称 | Ieee Transactions On Very Large Scale Integration (Vlsi) Systems | 期刊简称 | IEEE T VLSI SYST |
ISSN | 1063-8210 | eISSN | 1557-9999 |
最新JCI | 0.69 | 审稿周期(月) | |
出版周期(月) | Monthly | 投稿命中率(%) | |
中国人发表比例(%) | 2023年中国人文章占该期刊总数量暂无数据 (2022年为100.00%) | 期刊类别 | SCIE |
Gold OA文章占比 | 9.33 | 研究领域 | Computer Science, Hardware & Architecture | Engineering, Electrical & Electronic |
出版年份 | 1993 | 是否OA | 否 |
出版国家 | United States 美国 | 出版商 | IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC |
出版商地址 | 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141 | ||
被收录情况 | Science Citation Index Expanded|Current Contents - Engineering, Computing & Technology | ||
论文类型 | 该刊全部是论著,可能不接收综述类等文章 | ||
期刊语种 | English | 期刊预警 | 否 |
预警详情 | |||
说明 | 1、最新JCI和“Gold OA文章占比”等是2023年11月份最新数据,IF是2024年12月份更新后的数据。 2、Ifoid即国内常用的影响因子(IF)。 3、搜索某研究方向的期刊时,请用英文搜索,如肿瘤,用“oncology”或“cancer”;“纳米”用“nanoparticle”或“nano”或“small”或“material”等。 4、如果您发现有数据错误,请给我们留言或联系客服纠正,以帮助其他同道朋友。被采纳后,我们将会送您10-100积分以示感谢(该部分积分可以购物,不可提现)。 5、Editorial De-listing除名:该期刊已被重新评估,但不符合一项或多项质量标准,因此从Web of Science核心馆藏中删除;Production De-listing除名:由于未收到出版商的内容,期刊已从Web of Science核心馆藏中删除;Cease:该期刊已停止出版,因此不再包含在Web of Science核心馆藏中。 6、本网期刊信息仅供参考,与期刊官方不同之处,以官方为准。 | ||
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